Mercury2000P係列無掩膜光刻機　　

      支持：

    》第二代無掩膜光刻技術

    》全局對準功能

    》手動對準功能

    》預對準功能

    》對準補償設定

    》高精度圖形套刻匹配

    》全自動聚焦功能

    》灰度補償功能

    》支持GDSII,CIF,DXF多種格式處理

　　產品介紹:　

　　柠檬最新下载地址Mercury係列無掩膜直寫光刻設備基於先進的第二代光刻直寫技術，通過空間光調製器掃描技術實現直寫光刻。

    該係列產品主要應用於大規模集成電路150nm工藝節點以上掩膜版製作，亦可用於微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域的直寫光刻，在應用中省去了繁瑣的掩膜加工步驟，相比單束直寫具有效率高、技術先進、應用靈活等特點。該係列產品采用柠檬追剧app下载專利技術的大功率LD(波長405nm)光源，可達0.65um解析度和0.25um的套刻精度。

　　 指標 :

        SEM效果圖: