Mercury2000P係列無掩膜光刻機
支持:
》第二代無掩膜光刻技術
》全局對準功能
》手動對準功能
》預對準功能
》對準補償設定
》高精度圖形套刻匹配
》全自動聚焦功能
》灰度補償功能
》支持GDSII,CIF,DXF多種格式處理
產品介紹:
柠檬最新下载地址Mercury係列無掩膜直寫光刻設備基於先進的第二代光刻直寫技術,通過空間光調製器掃描技術實現直寫光刻。
該係列產品主要應用於大規模集成電路150nm工藝節點以上掩膜版製作,亦可用於微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域的直寫光刻,在應用中省去了繁瑣的掩膜加工步驟,相比單束直寫具有效率高、技術先進、應用靈活等特點。該係列產品采用柠檬追剧app下载專利技術的大功率LD(波長405nm)光源,可達0.65um解析度和0.25um的套刻精度。
指標 :
SEM效果圖: